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くわしいないよう

絵とき薄膜基礎のきそ

  • かいたひと 小林/春洋‖著
  • しゅっぱん 日刊工業新聞社
  • しゅっぱんねん 2006.12
  • ないよう 薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超LSIに関して薄膜技術との関係を述べる。

ぞうしょ

ばんごう かん ばしょ きごう しりょうくぶん 禁帯 しりょうじょうたい びこう
21121324 岡谷市本館 一般コーナー 549 コ 一般書
32149311 諏訪市 一般コ-ナ- 549.8 コ 一般書
41099159 下諏訪町 扉内 549 コ 一般書
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きほんじょうほう

タイトル 絵とき薄膜基礎のきそ
タイトルヨミ エトキ/ハクマク/キソ/ノ/キソ
著者 小林/春洋‖著
著者ヨミ コバヤシ,ハルヒロ
出版者 日刊工業新聞社
出版者ヨミ ニッカン/コウギョウ/シンブンシャ
本体価格 ¥2100
内容紹介 薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超LSIに関して薄膜技術との関係を述べる。
ISBN(10桁) 4-526-05791-6
出版年月,頒布年月等 2006.12
ページ数等 9,168p
大きさ 21cm
NDC9版 549.8

かいたいひと

<小林/春洋‖著>
大正14年福島県生まれ。東北大学電気工学科卒業。東北大学工学部助教授、日電アネルバ(株)常務取締役、(株)トーキン特別顧問等を経て、コンサルタント。著書に「レーザのはなし」など。
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