| タイトル | 絵とき薄膜基礎のきそ |
|---|---|
| タイトルヨミ | ｴﾄｷ/ﾊｸﾏｸ/ｷｿ/ﾉ/ｷｿ |
| タイトル標目(ローマ字形) | Etoki/hakumaku/kiso/no/kiso |
| シリーズ名 | Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｓｅｒｉｅｓ |
| シリーズ名標目(カタカナ形) | ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ/ｼﾘｰｽﾞ |
| シリーズ名標目(原綴形(全部欧文の場合)) | Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｓｅｒｉｅｓ |
| シリーズ名標目(ローマ字形) | Erekutoronikusu/shirizu |
| シリーズ名標目(アルファベット・数字を含むカタカナ形) | Electronics/Series |
| シリーズ名標目(典拠コード) | 607413300000000 |
| 著者 | 小林／春洋‖著 |
| 著者ヨミ | ｺﾊﾞﾔｼ,ﾊﾙﾋﾛ |
| 著者標目(漢字形(西洋人以外の統一形)) | 小林／春洋 |
| 著者標目(ローマ字形) | Kobayashi,Haruhiro |
| 著者標目(著者紹介) | 大正１４年福島県生まれ。東北大学電気工学科卒業。東北大学工学部助教授、日電アネルバ（株）常務取締役、（株）トーキン特別顧問等を経て、コンサルタント。著書に「レーザのはなし」など。 |
| 記述形典拠コード | 110000408620000 |
| 著者標目(統一形典拠コード) | 110000408620000 |
| 件名標目(漢字形) | 薄膜 |
| 件名標目(カタカナ形) | ﾊｸﾏｸ |
| 件名標目(ローマ字形) | Hakumaku |
| 件名標目(典拠コード) | 511306800000000 |
| 出版者 | 日刊工業新聞社 |
| 出版者ヨミ | ﾆｯｶﾝ/ｺｳｷﾞｮｳ/ｼﾝﾌﾞﾝｼｬ |
| 出版者・頒布者等標目(ローマ字形) | Nikkan/Kogyo/Shinbunsha |
| 本体価格 | ¥2100 |
| 内容紹介 | 薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超ＬＳＩに関して薄膜技術との関係を述べる。 |
| ジャンル名 | 01 |
| ジャンル名(図書詳細) | 120080080000 |
| ＩＳＢＮ(10桁) | 4-526-05791-6 |
| ISBNに対応する出版年月 | 2006.12 |
| TRCMARCNo. | 07000064 |
| Gコード | 31824137 |
| 出版地,頒布地等 | 東京 |
| 出版年月,頒布年月等 | 2006.12 |
| 出版者・頒布者等標目(出版年月,頒布年月等(数字)) | 200612 |
| 出版者・頒布者等標目(出版者コード) | 5719 |
| 出版者典拠コード | 310000187960000 |
| ページ数等 | 9,168p |
| 大きさ | 21cm |
| 装丁コード | 10 |
| 刊行形態区分 | A |
| NDC8版 | 549.8 |
| NDC9版 | 549.8 |
| 図書記号 | ｺｴ |
| 図書記号(単一標目指示) | 751A01 |
| 利用対象 | L |
| 書誌・年譜・年表 | 文献：ｐ１６５〜１６６ |
| 『週刊新刊全点案内』号数 | 1503 |
| ストックブックスコード | SS2 |
| テキストの言語 | jpn |
| 出版国コード | JP |
| 索引フラグ | 1 |
| データレベル | F |
| 更新レベル | 0001 |
| MARC種別 | A |
| 最終更新日付 | 20070105 |
| 一般的処理データ | 20061222 2006 JPN |
| レコード作成機関(国名コード) | JP |
| レコード作成機関(レコード作成機関名) | TRC |
| レコード作成機関(レコード提供年月日) | 20061222 |
| レコード作成機関(目録規則) | NCR1987 |
| レコード作成機関(システムコード) | trcmarc |
| 和洋区分 | 0 |